[发明专利]用于校准位置测量设备的方法和校准掩模有效
| 申请号： | 201080018981.2 | 申请日： | 2010-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN102414615A | 公开（公告）日： | 2012-04-11 |
| 发明（设计）人： | 诺伯特.克威恩;约琴.赫茨勒 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMS有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F1/42 | 分类号： | G03F1/42;G03F1/44;G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种校准用于光刻掩模(12)上的测量结构(14)的位置测量的设备(10)的方法，包括以下步骤：通过利用干涉测量确定衍射结构(42)相对于彼此的位置，从而验证包括布置在其上的衍射结构(42)的校准掩模(40)合格；利用所述设备，确定布置在所述校准掩模(40)上的测量结构(14)相对于彼此的位置；以及通过针对所述测量结构(14)所确定的位置以及针对所述衍射结构(42)所确定的位置，校准所述设备(10)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 校准 位置 测量 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种校准掩模(40)，用于校准用于光刻掩模(12)上的测量结构(14)的位置测量的设备，其中，所述校准掩模(40)包括衍射结构(42)，针对所述衍射结构(42)的干涉位置测量，构造所述衍射结构(42)。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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