[发明专利]微孔沉淀二氧化硅有效
| 申请号： | 201080019746.7 | 申请日： | 2010-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN102414127A | 公开（公告）日： | 2012-04-11 |
| 发明（设计）人： | T·A·奥克尔 | 申请（专利权）人： | PPG工业俄亥俄公司 |
| 主分类号： | C01B33/18 | 分类号： | C01B33/18;C01B33/193;B60C1/00;C08K3/36 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 陈宙 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本文描述的是具有下列物化参数的微孔沉淀二氧化硅：CTAB表面积为50-300平方米/克，BET/CTAB比率≥1.3，孔隙大小分布的相对宽度γ≤3.5。所述沉淀二氧化硅还可以具有10-28的Sears值和≤0.16的Sears值/CTAB比率。本文还描述了含有所述微孔沉淀二氧化硅的可硫化和经过硫化的弹性体组合物，例如轮胎。 | ||
| 搜索关键词： | 微孔 沉淀 二氧化硅 | ||
【主权项】：
沉淀二氧化硅，其特征在于下列物化参数：CTAB表面积：50‑300，BET/CTAB比率：≥1.3，孔隙大小分布的相对宽度γ：≤3.5。
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