[发明专利]薄型高功能偏振膜及其制造方法有效
| 申请号： | 201080019915.7 | 申请日： | 2010-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN102326105A | 公开（公告）日： | 2012-01-18 |
| 发明（设计）人： | 后藤周作;宫武稔;森智博;吉田健太郎;喜多川丈治 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张平元 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供具有单体透射率42.0％以上且偏振度99.95％以上的光学特性的薄型高功能偏振膜。为此，本发明通过下述方法进行制造：通过在至少具有20μm厚度的树脂基体材料上涂布PVA类树脂并进行干燥，来形成PVA类树脂层，将形成的PVA类树脂层浸渍于二色性物质的染色液中，使二色性物质吸附于PVA类树脂层，在硼酸水溶液中将吸附有二色性物质的PVA类树脂层与树脂基体材料一体地拉伸、并使总拉伸倍率达到原长的5倍以上，由此在树脂基体材料上制造了厚7μm以下的薄型高功能偏振膜，该薄型高功能偏振膜由PVA类树脂形成、且其中二色性物质发生了取向，并且，所述偏振膜具有单体透射率42.0％以上且偏振度99.95％以上的光学特性。 | ||
| 搜索关键词： | 薄型高 功能 偏振 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种薄型高功能偏振膜，其是一体地成膜在树脂基体材料上的厚度为7μm以下的薄型高功能偏振膜，该薄型高功能偏振膜由聚乙烯醇类树脂形成、且其中二色性物质发生了取向，其中，所述薄型高功能偏振膜具有单体透射率为42.0％以上以及偏振度为99.95％以上的光学特性。
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