[发明专利]用于气相沉积的反应器盖子组件

摘要

本发明的实施方案大体上涉及用于化学气相沉积(CVD)工艺的装置。在一个实施方案中，提供用于气相沉积的反应器盖子组件，包括被布置在盖子支撑件上邻近彼此的第一淋喷头组件和隔离器组件，以及被布置在盖子支撑件上邻近彼此的第二淋喷头组件和排气组件，其中隔离器组件被布置在第一淋喷头组件和第二淋喷头组件之间，并且第二淋喷头组件被布置在隔离器组件和排气组件之间。

主权项

一种用于气相沉积的反应器盖子组件，包括：在盖子支撑件上邻近彼此布置的第一淋喷头组件和隔离器组件，其中所述第一淋喷头组件还包括：主体，其包括上部分和下部分；中央通道，其延伸穿过所述主体的所述上部分和所述下部分，在所述主体的内表面之间，并且平行于延伸穿过所述主体的中心轴线；上管板，其包括第二多个孔并且被布置在所述中央通道内；下管板，其包括第三多个孔并且在所述上管板下方布置在所述中央通道内；以及多个管，其从所述上管板延伸至所述下管板，其中每个管被耦合于来自所述第二多个孔的分别的孔和来自所述第三多个孔的分别的孔，并且与该来自所述第二多个孔的分别的孔和该来自所述第三多个孔的分别的孔流体连通；以及在所述盖子支撑件上邻近彼此布置的第二淋喷头组件和排气组件，其中所述隔离器组件被布置在所述第一淋喷头组件和所述第二淋喷头组件之间，并且所述第二淋喷头组件被布置在所述隔离器组件和所述排气组件之间。