[发明专利]TiO2-SiO2玻璃体的制造方法及热处理方法、TiO2-SiO2玻璃体、EUVL用光学基材无效
| 申请号： | 201080021096.X | 申请日： | 2010-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN102421713A | 公开（公告）日： | 2012-04-18 |
| 发明（设计）人： | 小池章夫;三森乔宏;岩桥康臣;小川朝敬 | 申请（专利权）人： | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号： | C03B25/00 | 分类号： | C03B25/00;C03B27/012;C03B32/00;C03C3/06;C03C3/076;G03F1/22 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种TiO2-SiO2玻璃体的制造方法，其包含如下工序：在将透明玻璃化后的TiO2-SiO2玻璃体的退火点设为T1(℃)时，将透明玻璃化后的玻璃体在从T1-90(℃)至T1-220(℃)的温度范围内保持120小时以上。 | ||
| 搜索关键词： | tio sub sio 玻璃体 制造 方法 热处理 euvl 用光 基材 | ||
【主权项】：
一种TiO2‑SiO2玻璃体的制造方法，其中，包括如下工序：将透明玻璃化后的TiO2‑SiO2玻璃体的退火点设为T1(℃)时，在从T1‑90(℃)至T1‑220(℃)的温度范围内将透明玻璃化后的玻璃体保持120小时以上。
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