[发明专利]抑制HSP90的吲唑衍生物、含有所述衍生物的组合物及其用途无效
申请号: | 201080021973.3 | 申请日: | 2010-03-18 |
公开(公告)号: | CN102439003A | 公开(公告)日: | 2012-05-02 |
发明(设计)人: | L.伯廷;J-C.卡里;P.梅利特;H.米诺克斯;F.皮罗格;J-M.鲁克泽 | 申请(专利权)人: | 赛诺菲 |
主分类号: | C07D401/04 | 分类号: | C07D401/04;C07D401/14;C07D403/04;C07D407/14;C07D493/08;A61K31/4709;A61K31/4184;A61P35/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 封新琴 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明涉及新颖的式(I)产物,其中R4表示H、CH3、CH2CH3、CF3、F、Cl、Br或I;Het表示任选被一个或多个R1或R’1取代的杂环;R1和R’1基团选自H、卤素、CF3、硝基、氰基、烷基、羟基、巯基、氨基、烷基氨基、二烷基氨基、烷氧基、苯基烷氧基、烷基硫基、呈游离形式的羧基或用烷基酯化的羧基、氨甲酰基、CO-NH(烷基)、CON(烷基)2、NH-CO-烷基、氨磺酰基、NH-SO2-烷基、S(O)2-NH烷基和S(O)2-N(烷基)2,所有所述烷基、烷氧基和烷基硫基任选被取代;R选自(A’)、(B)、(C)、(D)和(E),其中W1、W2和W3独立表示CH或N;X表示O、S、NR2、C(O)、S(O)或S(O)2;V表示H、卤素原子、-O-R2或-NH-R2,其中R2表示H、任选取代的烷基、任选取代的环烷基或任选取代的杂环烷基;所述产物呈所有异构体或盐形式且旨在用作药物。 | ||
搜索关键词: | 抑制 hsp90 衍生物 有所 组合 及其 用途 | ||
【主权项】:
1.式(I)产物:其中R4表示H、CH3、CH2CH3、CF3、F、Cl、Br或I;Het表示芳香性或部分不饱和即二氢或四氢型的单环或二环杂环基团,其具有5至11个环成员,含有1至4个选自N、O或S的杂原子且任选取代有一个或多个基团R1或R’1,所述基团R1和R’1可相同或不同且如下所述,R选自:R1和/或R’1可相同或不同且选自H、卤素、CF3、硝基、氰基、烷基、羟基、巯基、氨基、烷基氨基、二烷基氨基、烷氧基、苯基烷氧基、烷基硫基、呈游离形式的羧基或用烷基酯化的羧基、氨甲酰基、CO-NH(烷基)、CON(烷基)2、NH-CO-烷基、氨磺酰基、NH-SO2-烷基、S(O)2-NH烷基和S(O)2-N(烷基)2,所有所述烷基、烷氧基和烷基硫基本身任选取代有一个或多个可相同或不同且选自以下的基团:卤素、羟基、烷氧基、氨基、烷基氨基和二烷基氨基;W1、W2和W3独立表示CH或N;X表示氧原子或硫原子或NR2、C(O)、S(O)或S(O)2基团;V表示氢原子或卤素原子或-O-R2基团或-NH-R2基团,其中R2表示氢原子或C1-C6烷基或C3-C8环烷基或C3-C10杂环烷基,所述C3-C8环烷基或C3-C10杂环烷基为单环或二环;这些烷基、环烷基和杂环烷基任选取代有一个或多个可相同或不同且选自以下的基团:--O-PO3H2;-O-PO3Na2;-O-SO3H2;-O-SO3Na2;-O-CH2-PO3H2;-O-CH2-PO3Na2;-O-CO-丙氨酸;-O-CO-甘氨酸;-O-CO-丝氨酸;-O-CO-赖氨酸;-O-CO-精氨酸;-O-CO-甘氨酸-赖氨酸;-O-CO-丙氨酸-赖氨酸;-卤素;羟基;巯基;氨基;氨甲酰基(CONH2);羧基;-杂环烷基;环烷基;杂芳基;用烷基酯化的羧基;-CO-NH(烷基);-O-CO-烷基;-NH-CO-烷基;烷基;烷氧基;烷基硫基;烷基氨基;二烷基氨基;在所有上述后面出现的基团中,所述烷基、烷氧基和烷基硫基本身任选取代有一个或多个可相同或不同且选自以下的基团:羟基、巯基、氨基、烷基氨基、二烷基氨基、CO2烷基、NHCO2烷基和杂环烷基;在所有这些基团中,所述环烷基、杂环烷基和杂芳基本身任选取代有一个或多个可相同或不同且选自以下的基团:羟基、烷基、烷氧基、CH2OH、氨基、烷基氨基、二烷基氨基、CO2烷基或NHCO2烷基;所述式(I)产物呈所有可能的互变异构形式和异构形式:外消旋形式、对映异构形式和非对映异构形式及式(I)产物与无机酸和有机酸的加成盐形式或式(I)产物与无机碱和有机碱的加成盐形式及式(I)产物的前药形式。
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