[发明专利]同步型栅格的箔影去除方法以及使用了该方法的放射线摄影装置有效
| 申请号： | 201080022446.4 | 申请日： | 2010-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN102438526A | 公开（公告）日： | 2012-05-02 |
| 发明（设计）人： | 藤田明德 | 申请（专利权）人： | 株式会社岛津制作所 |
| 主分类号： | A61B6/06 | 分类号： | A61B6/06;A61B6/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 从透视图像提取未受到栅格箔影的影响的像素的检测信号并实施插值处理，由此计算近似透视图像(S2或S2’)，计算透视图像与近似透视图像之差，从而计算栅格箔影图像(S3)，使栅格箔影图像在栅格箔影的长度方向上平均化，来计算箔影标准图像(S4)，计算透视图像与箔影标准图像之差来去除栅格箔影(S5)，由此能够去除同步型栅格的栅格箔影。 | ||
| 搜索关键词： | 同步 栅格 去除 方法 以及 使用 放射线 摄影 装置 | ||
【主权项】：
一种栅格箔影去除方法，其为具备同步型栅格的放射线摄影装置的栅格箔影去除方法，该同步型栅格中以使栅格箔影映到检测放射线的像素的中央的方式按固定间隔配置有栅格箔，该栅格箔影去除方法的特征在于，具备如下步骤：近似透视图像计算步骤，从透视图像提取未受到上述栅格箔影的影响的像素的检测信号值并实施插值处理，由此计算近似透视图像；栅格箔影图像计算步骤，计算上述透视图像与上述近似透视图像之差，从而计算栅格箔影图像；箔影标准图像计算步骤，使上述栅格箔影图像在上述栅格箔影的长度方向上平均化，来计算箔影标准图像；以及箔影去除步骤，基于上述箔影标准图像，从上述透视图像去除上述栅格箔影。
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