[发明专利]控制拜尔工艺中DSP污垢的方法有效
| 申请号： | 201080022489.2 | 申请日： | 2010-04-05 |
| 公开（公告）号： | CN102482110A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | T·拉;J·崔;J·D·基尔迪;D·H·斯林克曼;K·R·科尔曼 | 申请（专利权）人： | 纳尔科公司 |
| 主分类号： | C01F7/06 | 分类号： | C01F7/06;C01F7/47 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 顾敏 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了一种控制拜尔工艺液体循环中的二氧化硅的方法。该方法涉及加入促进剂材料以促进DSP沉淀，包括在循环回路中希望沉淀DSP和去除溶液中二氧化硅的部分，例如拜尔工艺车间的脱硅阶段，加入一种或多种二氧化硅分散体材料或者干燥形式的二氧化硅。从溶液中去除DSP降低了二氧化硅在液体中的浓度，因此更好地控制了例如二氧化硅对氧化铝产品的污染的工艺问题，以及在之后工艺阶段中形成DSP，在容器壁和装置上沉淀为污垢的问题。因此，本发明显著降低了拜尔工艺的总运行费用。 | ||
| 搜索关键词： | 控制 工艺 dsp 污垢 方法 | ||
【主权项】：
一种在拜尔工艺中去除二氧化硅的方法，包含步骤：在氧化铝工艺介质中添加促进剂，形成基于二氧化硅的沉淀物，以及从氧化铝工艺介质中去除DSP，其中促进剂提高了DSP形成的效率，且促进剂是包含二氧化硅分散体或者干燥形式二氧化硅的物质组合物。
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