[发明专利]半导体基板、光电转换器件、半导体基板的制造方法和光电转换器件的制造方法有效
申请号: | 201080023680.9 | 申请日: | 2010-06-03 |
公开(公告)号: | CN102449775A | 公开(公告)日: | 2012-05-09 |
发明(设计)人: | 秦雅彦;板谷太郎 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社;独立行政法人产业技术综合研究所 |
主分类号: | H01L31/04 | 分类号: | H01L31/04;H01L31/052 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种半导体基板,具有:含硅的基底基板,和形成在基底基板上,具有露出基底基板表面的开口,用于阻碍结晶生长的阻碍体、和接触被露出于开口内部的基底基板表面,形成在开口内部的光吸收构造体,光吸收构造体具有第1半导体和第2半导体,所述第1半导体包含:第1传导型第1半导体、形成在第1传导型第1半导体的上方,具有与第1传导型第1半导体相反的传导型的第2传导型第1半导体、以及形成在第1传导型第1半导体和第2传导型第1半导体之间,有效载流子浓度比第1传导型第1半导体及第2传导型第1半导体更低的低载流子浓度第1半导体;所述第2半导体包含:与第2传导型第1半导体晶格匹配或准晶格匹配且具有与第2传导型第1半导体相反的传导型的第1传导型第2半导体、以及形成第1传导型第2半导体的上方,具有与第1传导型第2半导体相反的传导型的第2传导型第2半导体、形成在第1传导型第2半导体和第2传导型第2半导体之间且有效载流子浓度比第1传导型第2半导体及第2传导型第2半导体更低的低载流子浓度第2半导体。 | ||
搜索关键词: | 半导体 光电 转换 器件 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种半导体基板,具有:含硅的基底基板,阻碍体,形成在所述基底基板上,具有露出所述基底基板表面的开口,用以阻碍结晶生长,以及光吸收构造体,与在所述开口内部露出的所述基底基板表面相接,形成在所述开口内部;其中,所述光吸收构造体具有第1半导体和第2半导体,所述第1半导体包含:第1传导型第1半导体、形成在所述第1传导型第1半导体的上方,具有与所述第1传导型第1半导体相反的传导型的第2传导型第1半导体、以及形成在所述第1传导型第1半导体和所述第2传导型第1半导体之间,有效载流子浓度比所述第1传导型第1半导体及所述第2传导型第1半导体更低的低载流子浓度第1半导体;所述第2半导体包含:与所述第2传导型第1半导体晶格匹配或准晶格匹配且具有与所述第2传导型第1半导体相反的传导型的第1传导型第2半导体、以及形成在所述第1传导型第2半导体的上方,具有与所述第1传导型第2半导体相反的传导型的第2传导型第2半导体、以及形成在所述第1传导型第2半导体和所述第2传导型第2半导体之间且有效载流子浓度比所述第1传导型第2半导体及所述第2传导型第2半导体更低的低载流子浓度第2半导体。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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