[发明专利]半导体基板、光电转换器件、半导体基板的制造方法和光电转换器件的制造方法有效

专利信息
申请号: 201080023680.9 申请日: 2010-06-03
公开(公告)号: CN102449775A 公开(公告)日: 2012-05-09
发明(设计)人: 秦雅彦;板谷太郎 申请(专利权)人: 住友化学株式会社;独立行政法人产业技术综合研究所
主分类号: H01L31/04 分类号: H01L31/04;H01L31/052
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种半导体基板,具有:含硅的基底基板,和形成在基底基板上,具有露出基底基板表面的开口,用于阻碍结晶生长的阻碍体、和接触被露出于开口内部的基底基板表面,形成在开口内部的光吸收构造体,光吸收构造体具有第1半导体和第2半导体,所述第1半导体包含:第1传导型第1半导体、形成在第1传导型第1半导体的上方,具有与第1传导型第1半导体相反的传导型的第2传导型第1半导体、以及形成在第1传导型第1半导体和第2传导型第1半导体之间,有效载流子浓度比第1传导型第1半导体及第2传导型第1半导体更低的低载流子浓度第1半导体;所述第2半导体包含:与第2传导型第1半导体晶格匹配或准晶格匹配且具有与第2传导型第1半导体相反的传导型的第1传导型第2半导体、以及形成第1传导型第2半导体的上方,具有与第1传导型第2半导体相反的传导型的第2传导型第2半导体、形成在第1传导型第2半导体和第2传导型第2半导体之间且有效载流子浓度比第1传导型第2半导体及第2传导型第2半导体更低的低载流子浓度第2半导体。
搜索关键词: 半导体 光电 转换 器件 制造 方法
【主权项】:
一种半导体基板,具有:含硅的基底基板,阻碍体,形成在所述基底基板上,具有露出所述基底基板表面的开口,用以阻碍结晶生长,以及光吸收构造体,与在所述开口内部露出的所述基底基板表面相接,形成在所述开口内部;其中,所述光吸收构造体具有第1半导体和第2半导体,所述第1半导体包含:第1传导型第1半导体、形成在所述第1传导型第1半导体的上方,具有与所述第1传导型第1半导体相反的传导型的第2传导型第1半导体、以及形成在所述第1传导型第1半导体和所述第2传导型第1半导体之间,有效载流子浓度比所述第1传导型第1半导体及所述第2传导型第1半导体更低的低载流子浓度第1半导体;所述第2半导体包含:与所述第2传导型第1半导体晶格匹配或准晶格匹配且具有与所述第2传导型第1半导体相反的传导型的第1传导型第2半导体、以及形成在所述第1传导型第2半导体的上方,具有与所述第1传导型第2半导体相反的传导型的第2传导型第2半导体、以及形成在所述第1传导型第2半导体和所述第2传导型第2半导体之间且有效载流子浓度比所述第1传导型第2半导体及所述第2传导型第2半导体更低的低载流子浓度第2半导体。
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