[发明专利]被膜形成物及被膜形成物的制造方法无效
| 申请号： | 201080023865.X | 申请日： | 2010-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN102449187A | 公开（公告）日： | 2012-05-09 |
| 发明（设计）人： | 岩堀恒一郎;中积诚 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;H01B13/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;孟伟青 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种被膜形成物的制造方法，该制造方法是利用溅射法将含有靶的构成元素的被膜形成于基板的表面上而制造被膜形成物的方法，其中，将所述靶和所述基板的距离d设定为所述构成元素在溅射气体中的平均自由行程的0.5倍至1.5倍的范围。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种被膜形成物的制造方法，该制造方法是利用溅射法将含有靶的构成元素的被膜形成于基板的表面上而制造被膜形成物的方法，其中，设所述靶与所述基板的距离为所述构成元素在溅射气体中的平均自由行程的0.5倍至1.5倍的范围。
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