[发明专利]含氟化合物、含氟高分子化合物、抗蚀剂组合物、顶涂层组合物和图案形成方法有效
申请号: | 201080024220.8 | 申请日: | 2010-05-20 |
公开(公告)号: | CN102449000A | 公开(公告)日: | 2012-05-09 |
发明(设计)人: | 森和规;萩原勇士;永盛将士;矶野芳美;成塚智;前田一彦 | 申请(专利权)人: | 中央硝子株式会社 |
主分类号: | C08F20/22 | 分类号: | C08F20/22;C07C69/653;C07C69/732;C08F12/14;C08F16/12;C08F32/08;G03F7/039;G03F7/11 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的含氟高分子化合物是包含通式(2)所示的重复单元(a)的、质均分子量为1,000~1,000,000的树脂。该树脂可以适用于利用300nm以下波长的高能射线或电子束来形成图案的抗蚀剂组合物、和浸没式光刻中的顶涂层组合物,其特征在于拒水性、特别是后退接触角大。(式中,R1表示含有聚合性双键的基团,R2表示氟原子或含氟烷基,R8表示取代或非取代的烷基等,W1表示单键、非取代或取代的亚甲基等。) | ||
搜索关键词: | 氟化 高分子化合物 抗蚀剂 组合 涂层 图案 形成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种含氟高分子化合物,其包含下述通式(2)所示的重复单元(a),且质均分子量为1,000~1,000,000,式(2)中,R1表示下式所示的含有聚合性双键的基团的任一种,R2表示氟原子或含氟烷基,R8表示通式(4)所示的取代或非取代的烷基、或芳基,式(4)中,R6、R7相互独立地表示氢原子、取代或非取代的烷基或芳基,通式(4)的式中的碳原子、R6、R7可相互键合而形成脂环式烃基,R8中所含的任意个数的氢原子可以被卤素、羟基、烷基或含氟烷基、芳基取代,R8中所含的亚甲基(CH2)可以被羰基(C=O)、醚基(O)、酰亚胺基(NH)、硫醚基(S)、亚磺酰基(SO)、磺酰基(SO2)取代,其中R8中所含的亚甲基不包括含有通式(4)中的C所表示的碳原子的亚甲基,W1表示二价连接基团,所述二价连接基团具有选自由单键、非取代或取代的亚甲基、二价环状烷基(脂环式烃基)、二价芳基(芳香族烃基)、取代或非取代的稠合多环式芳香族基、二价杂环基、羰基、醚基、酯键、氧羰基键、硫醚基、酰胺键、磺酰胺键、氨基甲酸酯键、脲键组成的组中的单独1种或2种以上原子团的组合所形成的主骨架,连接基团可具有多个相同的原子团,与碳原子键合的任意个数的氢原子可以被氟原子取代,连接基团内各原子也可以相互键合而形成环。
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