[发明专利]用于将材料引入低温系统中的装置和方法有效
申请号: | 201080026121.3 | 申请日: | 2010-04-06 |
公开(公告)号: | CN102460200A | 公开(公告)日: | 2012-05-16 |
发明(设计)人: | A·M·利奇;J·R·特里格尔;J·A·乌尔巴恩 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
主分类号: | G01R33/28 | 分类号: | G01R33/28;F17C13/00;G01R33/62 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 严志军;谭祐祥 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 提供了用于将样本引入低温系统(70)中的装置和方法,包括:气锁室(20);具有连接到气锁室上的第一端和连接到低温氦浴槽上的第二端的样本路径(10);平衡器(60),其插入样本路径中,并且定位在气锁和低温浴槽(72)之间,并且允许样本传送到低温氦浴槽;以及冷却单元,其联接到平衡器上,以控制平衡器的温度。还提供了一种机器可读介质,其包括在被控制器执行时促使样本定位在低温系统内的指令。 | ||
搜索关键词: | 用于 材料 引入 低温 系统 中的 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种用于将样本引入低温系统中的装置,包括:气锁室;低温氦浴槽;以及在第一端和第二端之间延伸的样本路径,所述第一端以流体连通的方式连接到所述气锁室上,所述第二端以流体连通的方式连接到所述低温氦浴槽上;其中,所述样本路径还包括:定位在所述气锁和所述低温氦浴槽之间的平衡器,所述平衡器允许样本传送到所述低温氦浴槽,以及冷却单元,其联接到所述平衡器上,以控制所述平衡器的温度。
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