[发明专利]亚临界剪切致稀的基于Ⅳ族的纳米颗粒流体有效
| 申请号： | 201080027703.3 | 申请日： | 2010-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN102460601A | 公开（公告）日： | 2012-05-16 |
| 发明（设计）人： | H·金;M·阿伯特;A·麦瑟;E·泰;A·琼斯;D·泊普拉维斯基;K·凡豪斯登 | 申请（专利权）人： | 英诺瓦莱特公司 |
| 主分类号： | H01B1/02 | 分类号： | H01B1/02;H01L21/208 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 邢德杰 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于IV族的纳米颗粒流体。所述纳米颗粒流体包括一组纳米颗粒，所述纳米颗粒包含一组IV族原子，其中一组纳米颗粒以所述纳米颗粒流体的在约1重量％和约20重量％之间的量存在。所述纳米颗粒流体还包括一组高分子量分子，其中所述一组高分子量分子以所述纳米颗粒流体的在约0重量％和约5重量％之间的量存在。所述纳米颗粒流体还包括一组封端剂分子，其中所述一组封端剂分子的至少一些封端剂分子连结到所述一组纳米颗粒。 | ||
| 搜索关键词： | 临界 剪切 基于 纳米 颗粒 流体 | ||
【主权项】：
一种硅纳米颗粒流体，所述流体包含：一组硅纳米颗粒，其中所述一组硅纳米颗粒以所述硅纳米颗粒流体的在约1重量％和约20重量％之间的量存在；一组高分子量分子，其中所述一组高分子量分子以所述硅纳米颗粒流体的在约0重量％和约10重量％之间的量存在；以及一组封端剂分子，其中所述一组封端剂分子的至少一些封端剂分子连结到所述一组硅纳米颗粒。
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