[发明专利]真空加热/冷却装置及磁阻元件的制造方法

摘要

本发明提供一种能够在成膜处理之后在维持高真空度的状态下仅急速地加热和急速地冷却基板的真空加热/冷却装置。根据本发明的实施方式的真空加热/冷却装置包括真空室(1)、发出加热光的卤素灯(2)、用于允许加热光进入真空室(1)的石英窗(3)、具有冷却功能的基板支撑台(9)、以及使基板(5)停在加热位置(P3)和冷却位置(P1)并且使基板(5)在加热位置(P3)与冷却位置(P1)之间移动的升降销(13)。

主权项

一种在真空中加热/冷却基板的真空加热/冷却装置，该装置包括：真空室；放射能量源，其被配置在所述真空室的大气侧并且放射加热光；入射部，其用于使来自所述放射能量源的加热光进入所述真空室；配置在所述真空室内部并且具有冷却机构的构件，该构件能由所述冷却机构冷却；以及基板移动机构，其具有用于保持所述基板的基板保持部，所述基板移动机构使所述基板保持部停在加热位置和与所述加热位置不同的冷却位置，并且还使所述基板保持部在所述加热位置和所述冷却位置之间移动，其中，所述加热位置是当所述基板被加热时所述基板应当位于的位置并且是靠近所述放射能量源的位置，所述冷却位置是当所述基板被冷却时所述基板应当位于的位置并且是靠近所述构件的位置或者是所述基板被载置于所述构件的位置。