[发明专利]表面发射激光器元件、表面发射激光器阵列、光学扫描设备、成像设备和制造表面发射激光器元件的方法无效

专利信息
申请号: 201080028814.6 申请日: 2010-05-26
公开(公告)号: CN102460865A 公开(公告)日: 2012-05-16
发明(设计)人: 东康弘;原坂和宏 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王冉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 制造表面发射激光器元件的方法,该表面发射激光器元件包括具有发射区域的发光台地结构,该台地结构包括具有高反射率部分和低反射率部分的发射区域,所述方法包括:在衬底上形成包括下部反射镜、腔结构和上部反射镜的层叠体;在层叠体的上表面上形成与第一区域相同尺寸的第二区域;通过蚀刻第一区域和第二区域分别形成发光台地结构和监视台地结构;在发光台地结构和监视台地结构中形成包括由氧化物围绕的电流通过区域的限制结构;以及测量监视台地结构的电流通过区域的尺寸。
搜索关键词: 表面 发射 激光器 元件 阵列 光学 扫描 设备 成像 制造 方法
【主权项】:
一种表面发射激光器元件,包括:衬底;发光台地结构;和设置在发光台地结构附近的监视台地结构,其中,发光台地结构包括下部反射镜、包括有源层的腔结构、和具有限制结构的上部反射镜,其中,电流通过区域被氧化物围绕;其中,发光台地结构的发射区域包括高反射率部分和低反射率部分;且监视台地结构被构造成监视电流通过区域的尺寸。
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