[发明专利]强磁性材料溅射靶有效
| 申请号： | 201080029130.8 | 申请日： | 2010-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN102471876A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 佐藤敦;荒川笃俊 | 申请（专利权）人： | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C19/07;C22C32/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种强磁性材料溅射靶，其包含Cr为20摩尔％以下、其余为Co的组成的金属，其特征在于，该靶的组织具有金属基质(A)和在所述(A)中的球形的相(B)，所述球形的相(B)含有90重量％以上的Co且长径与短径之差为0％～50％。本发明所得到的强磁性材料溅射靶，可以提高漏磁通、从而通过磁控溅射装置进行稳定的放电。 | ||
| 搜索关键词： | 磁性材料 溅射 | ||
【主权项】：
一种强磁性材料溅射靶，其包含Cr为20摩尔％以下、其余为Co的组成的金属，其特征在于，该靶的组织具有金属基质(A)和在所述(A)中的球形的相(B)，所述球形的相(B)含有90重量％以上的Co且长径与短径之差为0％～50％。
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