[发明专利]过滤膜模块清洁方法和清洁设备有效

专利信息
申请号: 201080029200.X 申请日: 2010-06-09
公开(公告)号: CN102470325A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 佐藤茂雄;丰冈和宏 申请(专利权)人: 株式会社明电舍
主分类号: B01D65/02 分类号: B01D65/02
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 柳爱国
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 在常规空气清洁方法和清洁设备中,将过滤膜模块从反应罐抽出并且必须将化学物质注入暴露于空气的过滤膜模块,因此,需要复杂的工作、较大的设备成本以及较大的安装空间。为解决上面的问题,根据本发明,以这种方式清洁过滤膜模块(11):将过滤膜模块(11)容纳于模块外壳(27)中;将空气导入模块外壳(27)从而用空气填满模块外壳(27)的内部;并且在过滤膜模块(11)保持暴露于空气的情况下将比如次氯酸钠等之类的清洁用化学溶液注入过滤膜模块(11)的二次侧;以及使化学溶液在渗入过滤膜模块(11)的一次侧。
搜索关键词: 滤膜 模块 清洁 方法 设备
【主权项】:
一种过滤膜模块清洁方法,包括:将清洁用化学溶液注入保持浸没于反应罐中的溶液中的过滤膜模块的二次侧,从而使所述化学溶液朝着一次侧渗入所述过滤膜模块,以清洁所述过滤膜模块,其特征在于,将所述过滤膜模块容纳于模块外壳中,使空气导入所述模块外壳,并且在所述过滤膜模块保持暴露于空气的情况下,将所述化学溶液注入所述过滤膜模块的所述二次侧,从而使所述溶液朝着所述模块的所述一次侧渗入所述模块。
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