[发明专利]磁记录介质的制造方法及磁记录再生装置有效

专利信息
申请号: 201080030040.0 申请日: 2010-07-01
公开(公告)号: CN102473422A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 石桥信一;上田学;坂胁彰 申请(专利权)人: 昭和电工株式会社
主分类号: G11B5/84 分类号: G11B5/84
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 刘瑞东;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 可以简便的工序制造具有鲜明磁记录图形的磁记录介质的磁记录介质制造方法,包含:在非磁性基板(1)上形成磁性层(2)的工序;形成覆盖磁性层(2)的面的掩模层(3)的工序;在掩模层(3)上形成抗蚀剂层的工序;用压型器(5)使抗蚀剂层图形化的工序;用抗蚀剂层使掩模层(3)图形化的工序;通过部分地除去磁性层(2)的未被掩模层(3)覆盖的地方而形成凹部(6)的工序;形成覆盖形成了凹部(6)的面的非磁性层(7)的工序G;使非磁性层(7)的表面平坦化直到掩模层(3)露出的工序H;除去露出的掩模层(3)的工序I;除去非磁性层(7)的突起部分(7a)的工序J;形成覆盖除去了突起部分(7a)的面的保护层(8)的工序K。
搜索关键词: 记录 介质 制造 方法 再生 装置
【主权项】:
一种磁记录介质的制造方法,是具有磁分离的磁记录图形的磁记录介质的制造方法,其特征在于,具备:在非磁性基板的至少一个面上形成磁性层的工序;形成覆盖上述磁性层的面的掩模层的工序;在上述掩模层上形成被图形化为与上述磁记录图形对应的形状的抗蚀剂层的工序;使用上述抗蚀剂层将上述掩模层图形化为与上述磁记录图形对应的形状的工序;通过部分地除去上述磁性层的未被上述掩模层覆盖的地方而形成凹部的工序;形成覆盖形成有上述凹部的面的非磁性层的工序;将上述非磁性层的表面平坦化直到上述掩模层露出的工序;除去上述露出的掩模层的工序;除去从上述凹部的内侧比上述磁性层的表面更向外侧突出的非磁性层的突起部分的工序;以及形成覆盖除去了上述突起部分的面的保护层的工序。
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