[发明专利]高纯度钼粉末及其制造方法有效
| 申请号： | 201080030705.8 | 申请日： | 2010-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN102470437A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 山口悟 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝;东芝高新材料公司 |
| 主分类号： | B22F1/00 | 分类号： | B22F1/00;B22F9/22 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 张楠;陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在将氧化钼粉末还原而获得高纯度钼粉末时，将氧化钼粉末加入到用钼覆盖了内壁的容器中，在950～1100℃的温度下进行还原。此外，在途中的干燥工序中得到1次粒子多的氧化钼粉末。由此，能得到1次粒子的比例为50％以上的高纯度钼粉末。此外，通过改进干燥工序，可得到平均粒径为0.5～100μm且1次粒子的比例为50％以上的高纯度钼粉末。 | ||
| 搜索关键词： | 纯度 粉末 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种高纯度钼粉末，其特征在于，平均粒径为0.5～100μm，1次粒子的比例为50％以上，且纯度为99.99％以上。
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