[发明专利]互连封装结构及制造和使用该互连封装结构的方法有效

专利信息
申请号: 201080031320.3 申请日: 2010-07-13
公开(公告)号: CN102473591A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 尼泰史·卡玛怀特;艾博黑沙克·查德胡瑞;温科·桑德锐曼;罗·R·特玛拉 申请(专利权)人: 佐治亚科技研究公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00
代理公司: 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 代理人: 齐永红;常春
地址: 乔治*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明的各种实施方式提供了细节距,芯片至基底互连封装结构,以及制造和实用该封装结构的方法。该封装结构通常包括一具有设置于其上的晶粒焊盘和凸块的半导体,及具有设置于其上的基底焊盘的基底。该凸块被配置为在凸块与基底焊盘接触时使半导体的至少一部分与基底的至少一部分电性互连。另外,在凸块与基底焊盘接触时,凸块的至少一部分和基底焊盘的至少一部分发生变形以在二者之间形成一非冶金结合。
搜索关键词: 互连 封装 结构 制造 使用 方法
【主权项】:
一种互连封装结构,包括:一半导体;一晶粒焊盘,该晶粒焊盘设置于该半导体的一表面的至少一部分上,其中,该晶粒焊盘由一导电材料制成;一凸块,该凸块设置于该晶粒焊盘的至少一部分上,其中,该凸块由一导电材料制成;一基底;以及,一基底焊盘,该基底焊盘设置于该基底的一表面的至少一部分上,其中,该基底焊盘由导电材料制成;其中,该凸块配置为在该凸块与该基底焊盘接触时使该半导体的至少一部分与该基底的至少一部分电性互连;其中,在该凸块与该基底焊盘接触时,凸块的至少一部分和基底焊盘的至少一部分发生实质变形以在二者之间形成一非冶金结合。
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