[发明专利]用于修整CMP垫的具有平且一致平面形貌的研磨工具及制造方法有效
申请号: | 201080031324.1 | 申请日: | 2010-07-16 |
公开(公告)号: | CN102470505A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
发明(设计)人: | J·吴;G·张;R·W·J·霍尔 | 申请(专利权)人: | 圣戈班磨料磨具有限公司;法国圣戈班磨料磨具公司 |
主分类号: | B24B37/24 | 分类号: | B24B37/24;B24D18/00;B24B53/12 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 顾敏 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 在此披露了一种用于修整CMP垫的、具有平且一致平面形貌的研磨工具以及制造方法。该研磨工具包括通过一种金属粘结剂连接到一个低热膨胀系数(CTE)基底上的磨料颗粒。存在范围从约0.1μm/m-℃至约5.0μm/m-℃的一个总CTE失配。该总CTE失配是磨料颗粒和金属粘结剂的CTE失配与低CTE基底和金属粘结剂的CTE失配之间的差值。 | ||
搜索关键词: | 用于 修整 cmp 具有 一致 平面 形貌 研磨 工具 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种研磨工具,包括:通过一种金属粘结剂连接到一种低热膨胀系数(CTE)基底上的磨料颗粒,其中存在范围从约0.1μm/m‑℃至约5.0μm/m‑℃的总CTE失配,其中该总CTE失配是这些磨料颗粒和该金属粘结剂的CTE失配与该低CTE基底和该金属粘结剂的CTE失配之间的差值。
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