[发明专利]具有背侧支撑层的绝缘体上半导体有效
申请号: | 201080031818.X | 申请日: | 2010-07-14 |
公开(公告)号: | CN102484097A | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
发明(设计)人: | S.B.莫林;P.A.尼加德;M.A.斯图伯 | 申请(专利权)人: | IO半导体公司 |
主分类号: | H01L21/78 | 分类号: | H01L21/78;H01L21/84;H01L21/768;H01L23/48 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 彭久云 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明实施例为绝缘体上半导体(SOI)结构提供了有效支撑。本发明实施例还可为SOI结构提供改进的散热性能,同时保持SOI结构所伴随的有益的电器件特性。在一个实施例中,公开了一种集成电路。集成电路包括:来自绝缘体上硅晶圆的绝缘体上硅芯片。所述绝缘体上硅芯片具有有源层、绝缘层、基板以及加强层。所述基板由挖掉的基板区域和支撑区域组成,所述支撑区域与所述绝缘层接触。所述支撑区和所述加强层域被配置成共同作用,以便在从所述绝缘体上硅晶圆切片出所述绝缘体上硅芯片时为所述绝缘体上硅芯片提供所需的大部分稳定力。 | ||
搜索关键词: | 具有 支撑 绝缘体 上半 导体 | ||
【主权项】:
一种集成电路,包括:来自绝缘体上硅晶圆的绝缘体上硅芯片,所述绝缘体上硅芯片具有有源层、绝缘层和基板;其中所述基板由挖掉的基板区域和支撑区域组成,所述支撑区域与所述绝缘层接触;以及其中所述支撑区域被配置成在从所述绝缘体上硅晶圆切片出所述绝缘体上硅芯片时为所述绝缘体上硅芯片提供所需的大部分稳定力。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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