[发明专利]剃刀上的原子层沉积涂层有效
| 申请号： | 201080032040.4 | 申请日： | 2010-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN102470537A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | J·马迪拉;N·索南伯格 | 申请（专利权）人： | 吉列公司 |
| 主分类号： | B26B21/60 | 分类号： | B26B21/60;C23C16/455 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 柳爱国 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了用于在剃刀刀片上产生共形涂层的原子层沉积(ALD)工艺的一种新型应用，其中均匀的、共形的、致密的涂层被沉积在刀片侧翼的整个表面以及刀片主体的至少一部分或整个表面上。为了改善涂覆的刀刃的剃刮能力(例如，减小刀片尖端半径)，可在ALD工艺期间、之后或期间和之后蚀刻采用ALD制备的涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 剃刀 原子 沉积 涂层 | ||
【主权项】：
一种用于涂覆剃刀刀片的方法，其特征在于：使用原子层沉积(ALD)工艺在被定位在真空室中的至少一个剃刀刀片上沉积至少一种材料的至少一个涂层，其中所述至少一个涂层覆盖至少一个刀片侧翼的整个表面和所述至少一个剃刀刀片的刀片主体的表面的至少一部分；以及蚀刻所述至少一个涂层。
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