[发明专利]制备涂覆基材的方法、涂覆的基材及其用途无效
申请号: | 201080032572.8 | 申请日: | 2010-07-28 |
公开(公告)号: | CN102471882A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
发明(设计)人: | A·S·博罗维克;D·L·迪文波特;J·黑勒;B·库兹马诺维茨;A·R·卢特默;S·奥伯豪泽尔 | 申请(专利权)人: | 阿克佐诺贝尔化学国际公司 |
主分类号: | C23C16/20 | 分类号: | C23C16/20;C23C16/46;C23C28/02 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 刘金辉;林柏楠 |
地址: | 荷兰阿*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明涉及一种制备具有多区域金属涂层的基材的方法,其包括如下步骤:使任选包含具有不同于金属材料组成的金属外层的所述金属材料加热至温度T1,沉积铝、镁和/或锌涂层,和冷却至温度T2并继续沉积。此外,还涉及可用所述方法获得的具有多区域金属涂层的基材。 | ||
搜索关键词: | 制备 基材 方法 及其 用途 | ||
【主权项】:
制备具有多区域金属涂层的基材的方法,包括如下步骤:(i)将任选包含具有不同于金属材料的组成的金属外层的所述金属材料加热至温度T1,(ii)在T1下,使用一种或多种选自含铝前体和/或含镁前体和/或含锌前体的含金属前体经由金属有机化学气相沉积而经10秒至12分钟的时间将铝、镁和/或锌涂层沉积至所述金属材料上,其中T1为在其下沉积的金属和所述金属材料和/或金属外层的金属的扩散速率大于或等于沉积的金属的沉积速率,但低于所述金属材料或金属外层的熔点或低于形成的金属涂层的熔点的温度,其中所述熔点为最低的,条件是所述金属材料外部的金属组成不同于沉积金属的组成,和(iii)冷却至温度T2并继续沉积,其中T2为所述金属的扩散速率小于该金属的沉积速率,但至少为正在沉积的金属的沉积速率大于0.2μm/分钟时的温度。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的