[发明专利]半色调掩膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201080032763.4 申请日: 2010-05-20
公开(公告)号: CN102460645A 公开(公告)日: 2012-05-16
发明(设计)人: 金武成 申请(专利权)人: LG伊诺特有限公司
主分类号: H01L21/027 分类号: H01L21/027
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 许向彤;林锦辉
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明提供一种半色调掩膜及其制造方法,其被配置为减少具有多个半透过单元的半色调掩膜的制造过程的数目,由此减少制造成本和时间,其中,所述半色调掩膜,包括:衬底;透射区,形成在所述衬底上,用于透射照射的预定波长范围的光;以及半透过区,具有多个半透过单元,所述半透过单元使用两种或更多半透过材料从而对于照射在所述衬底上的预定波长范围的光具有两种或更多互不相同的透射率。
搜索关键词: 色调 及其 制造 方法
【主权项】:
一种半色调掩膜,包括:衬底;透射区,形成在所述衬底上,用于透射照射的预定波长范围的光;以及半透过区,具有多个半透过单元,所述半透过单元使用两种或更多半透过材料从而对于照射在所述衬底上的预定波长范围的光具有两种或更多互不相同的透射率。
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