[发明专利]拒水膜形成用组合物、带拒水膜的基体及其制造方法以及运输机械用物品有效
申请号: | 201080034943.6 | 申请日: | 2010-08-03 |
公开(公告)号: | CN102471669A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
发明(设计)人: | 岸川知子;竹田洋介;伊藤敦史;米田贵重 | 申请(专利权)人: | 旭硝子株式会社 |
主分类号: | C09K3/18 | 分类号: | C09K3/18;C09D5/00;C09D183/08 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 胡烨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供可形成具有良好的水滴除去性且兼具耐磨损性和耐候性的拒水膜的拒水膜形成用组合物,具有由该拒水性形成用组合物形成的水滴除去性、耐磨损性、耐候性良好的拒水层的带拒水膜的基体及其制造方法以及运输机械用物品。本发明提供包含具有含醚氧键的含氟有机基团的特定的有机硅烷化合物、具有不含醚氧键的含氟有机基团的特定的有机硅烷化合物作为主要成分的拒水膜形成用组合物,及具有基体和位于所述基体的表面的将由该拒水膜形成用组合物形成的拒水层配置在最外层的拒水膜的带拒水膜的基体以及由该基体形成的运输机械用物品。 | ||
搜索关键词: | 拒水膜 形成 组合 带拒水膜 基体 及其 制造 方法 以及 运输 机械 物品 | ||
【主权项】:
1.拒水膜形成用组合物,其特征在于,包含下述化合物(A)和化合物(B),或者包含以下述通式(1a)表示的化合物和/或其部分水解缩合物与以下述通式(2a)表示的化合物和/或其部分水解缩合物的部分水解共缩合物;化合物(A):选自以下述通式(1a)表示的化合物、其部分水解缩合物和以下述通式(1b)表示的化合物的至少1种不含醚性氧的含氟有机硅化合物;Rf1-Y-Si(R11)r(X1)3-r …(1a)式(1a)、(1b)中,Rf1表示可具有环结构的碳数1~20的碳-碳原子间不含醚性氧原子的全氟烷基,Y表示碳数1~6的不含氟原子的2价有机基团,R11分别独立地表示氢原子或碳数1~6的不含氟原子的烃基,X1分别独立地表示卤素原子、烷氧基或异氰酸酯基,r表示0~2的整数,R1表示氢原子或碳数1~3的不含氟原子的烃基,b表示1~100的整数;化合物(B):选自以下述通式(2a)表示的化合物、其部分水解缩合物和以下述通式(2b)表示的化合物的至少1种含醚性氧的含氟有机硅化合物;Rf2-W-Z-Si(R12)p(X2)3-p …(2a)式(2a)、(2b)中,Rf2表示可具有环结构的碳数1~20的碳-碳原子间可插入有醚性氧原子的全氟烷基,W表示-O-(CF2CF2O)a-CF2-,a表示1~200的整数,Z表示2价有机基团,R12分别独立地表示氢原子或碳数1~6的不含氟原子的烃基,X2分别独立地表示卤素原子、烷氧基或异氰酸酯基,p表示0~2的整数,R2表示氢原子或碳数1~3的不含氟原子的烃基,c表示1~100的整数。
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