[发明专利]用于形成金属互连的刻蚀剂组合物无效
| 申请号： | 201080035646.3 | 申请日： | 2010-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN102471687A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 梁承宰;李昔准;张尚勋;李俊雨;林玟基;权五柄;朴英哲 | 申请（专利权）人： | 东友FINE-CHEM股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/08 | 分类号： | C09K13/08;C23F1/20 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人： | 武晨燕;周义刚 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于刻蚀包括选自铟基透明导电层、铝基金属层和钛基金属层中的一种或更多种的金属层的刻蚀溶液组合物；其中，铟基透明导电层、铝基金属层和钛基金属层用作像素电极、栅电极、源电极和漏极电极的导线。该刻蚀溶液组合物在刻蚀铟基透明导电层、铝基金属层和钛基金属层的各层方面是优异的，并且在刻蚀铝-镧基合金层方面是特别优越的。此外，可以用于对包括铟基透明导电层、铝基金属层和钛基金属层的三层进行有效的成批刻蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 金属 互连 刻蚀 组合 | ||
【主权项】：
一种用于刻蚀包括选自铟基透明导电层、铝基金属层和钛基金属层中的一种或更多种的金属层的刻蚀溶液组合物，基于所述组合物的总重量，所述组合物包含0.1～10wt％的硝酸、0.1～10wt％的硫酸、0.01～5wt％的含氟化合物、以及余量的水。
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