[发明专利]红外辐射微装置的外壳和制备所述外壳的方法

摘要

红外辐射微装置、所述装置的盖子和制备所述装置的方法，所述装置包括基底、盖子和红外辐射检测、发射或反射红外微单元，所述红外微单元置于由所述基底和所述盖子限定的空腔中，所述盖子包括抗反射表面纹理，以提高红外辐射透过率，其中在添加过程中在所述盖子的基底侧上和/或所述基底的盖子侧上形成的距离框架置于所述基底和所述盖子之间。

主权项

将红外辐射微单元(120，121)容置以提供晶圆级红外辐射微装置(100)的方法，外壳包括盖子(101)和基底(102)以及硅距离框架(140)，所述方法包括以下步骤：‑以图案掩蔽所述盖子(101)，以形成表面纹理，所述表面纹理用于以下目的之一：降低所述盖子(101)对于红外辐射的反射率，和增强所述盖子(101)对于红外辐射的透过率，‑蚀刻所述盖子(101)以创建具有所述表面纹理的区域(190,195)，所述表面纹理包括隆起和/或凹陷，‑在所述盖子(101)的基底侧上提供硅距离框架(140)，其中所述硅距离框架(140)通过以下方式提供：‑在包含表面纹理的盖子(101)上沉积非结构化TEOS层，从而也覆盖所述表面纹理，‑通过CVD在非结构化的TEOS层上沉积硅层，‑用限定硅距离框架(140)的图案掩蔽CVD沉积的硅层，‑蚀刻所述CVD沉积的硅层以提供硅距离框架(140)，并‑去除所述硅距离框架(140)外的所述盖子(101)的非结构化TEOS层，暴露表面纹理；‑将所述基底(102)和所述盖子(101)与中间的所述距离框架(140)接合(380)，这样所述基底(102)、所述盖子(101)和所述距离框架(140)形成空腔(116)，容置基底(102)上的红外辐射微单元(120,121)。