[发明专利]量测方法和设备、光刻设备、光刻处理单元和包括量测目标的衬底有效
| 申请号： | 201080037150.X | 申请日： | 2010-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN102483582A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | H·斯米尔德;A·邓鲍夫;W·考恩;阿诺·布里克;A·库兰;H·柏莱曼斯;R·普拉格 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种量测设备布置成以离轴照射模式照射多个目标。仅利用一个第一级衍射束获得目标的图像。在目标是复合光栅的情况下，可以根据不同光栅的图像的强度获得重叠测量。重叠测量可以被针对于由光栅在像场中的位置变化引起的误差进行校正。 | ||
| 搜索关键词： | 方法 设备 光刻 处理 单元 包括 目标 衬底 | ||
【主权项】：
一种量测设备，配置成测量衬底上的多个目标的性质，所述量测设备包括：源，配置成发射照射辐射束；物镜，配置成将测量辐射束引导到所述衬底上的目标上和收集由所述目标衍射的辐射；和传感器，配置成检测所述目标的图像；其中所述源、物镜和传感器布置成使得所述照射束同时照射所述目标，由所述传感器检测的所述目标的图像由一个第一级衍射束形成；和所述设备还包括：图像处理器，配置成在由所述传感器检测的图像中识别所述目标中的各个目标的独立的图像。
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