[发明专利]照射系统、光刻设备和调节照射模式的方法有效
| 申请号： | 201080037493.6 | 申请日： | 2010-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN102483584A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | G·德维里斯;埃德温·比伊斯;M·范达姆;J·范斯库特;F·布恩;H·科瑞沃 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种照射系统，该照射系统具有可以配置成形成照射模式的多个可移动反射元件(22a、22b、22c)和相关的致动器。所述致动器中的一个或更多个布置成在第一位置、第二位置和第三位置之间移动，并因此在第一方向、第二方向和第三方向之间移动相关的可移动反射元件(22a、22b、22c)，所述第一方向和第二方向使得从所述可移动反射元件(22a、22b、22c)反射的辐射形成所述照射模式的一部分，所述第三方向使得从所述可移动反射元件反射的辐射不形成照射模式的一部分。 | ||
| 搜索关键词： | 照射 系统 光刻 设备 调节 模式 方法 | ||
【主权项】：
一种照射系统，包括能够配置成形成照射模式的多个可移动反射元件和相关的致动器，其中所述致动器中的一个或更多个布置成在第一位置、第二位置和第三位置之间移动并因此在第一方向、第二方向和第三方向之间移动相关的可移动反射元件，所述第一方向和第二方向使得从所述可移动反射元件反射的辐射形成所述照射模式的一部分，所述第三方向使得从所述可移动反射元件反射的辐射不形成所述照射模式的一部分。
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