[发明专利]用于垂直柱互连的方法和结构无效

专利信息
申请号: 201080037577.X 申请日: 2010-06-29
公开(公告)号: CN102484081A 公开(公告)日: 2012-05-30
发明(设计)人: 居伊·F·布格斯;安东尼·库尔蒂斯;迈克尔·E·约翰逊;吉恩·斯托特;西奥多·G·特斯耶尔 申请(专利权)人: 弗利普芯片国际有限公司
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60;H01L23/488
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;吴孟秋
地址: 美国亚*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 在晶圆级芯片尺寸封装以及倒装芯片封装和组件中,在垂直柱上形成有焊料盖。在一个实施例中,所述垂直柱叠置在半导体衬底上。将可掺杂有至少一种微量元素的焊膏涂敷至该柱形结构的顶表面上。在涂敷焊膏之后执行回流工艺以形成焊料盖。
搜索关键词: 用于 垂直 互连 方法 结构
【主权项】:
一种方法,包括:形成叠置在接合焊盘上的垂直柱,其中所述接合焊盘叠置在一半导体衬底上;以及在所述柱的顶表面上涂敷焊膏,其中所述焊膏由至少一个光致抗蚀层限定。
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