[发明专利]光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物及使用该组合物形成图案的方法

摘要

根据一个实施方案，光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含：下面通式(I)的化合物中的任意一个，当暴露于光化射线或辐射时生成酸的化合物以及疏水树脂。(通式(I)中所使用的符号具有说明书中所提到的含义)。RN-A-X+    (I)。

主权项

一种光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含下面通式(I)的化合物中的任意一个、当暴露于光化射线或辐射时生成酸的化合物和疏水树脂，RN‑A‑X+    (I)在通式(I)中，RN表示含有至少一个氮原子的一价碱性化合物残基，所述碱性化合物残基的共轭酸RNH+具有8以下的pKa值，A‑表示‑SO3‑、‑CO2‑或‑X1‑N‑‑X2‑R1，其中每个X1和X2独立地表示‑CO‑或‑SO2‑，并且R1表示一价有机基团，并且X+表示抗衡阳离子。