[发明专利]光源的主动光谱控制有效
申请号: | 201080038324.4 | 申请日: | 2010-08-24 |
公开(公告)号: | CN102484350A | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
发明(设计)人: | 成乐根;I·B·拉洛维奇;N·R·法勒;R·J·拉法克;J·J·班迪克 | 申请(专利权)人: | 西默股份有限公司 |
主分类号: | H01S3/13 | 分类号: | H01S3/13 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 管琦琦 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种控制光束的光谱性质的方法,所述方法包括:引导光束至被配置在晶片上创建图案的光刻曝光装置;接收表示光束的光谱性质的信息;接收表示光刻曝光装置的光学成像条件的信息;基于所接收的光谱性质信息和所接收的光学成像条件信息估计光束的特征值;确定所估计的光束特征值是否与目标光束特征值匹配;以及如果确定所估计的光束特性值与目标光束特性值不匹配,则调整所述光束的光谱性质。 | ||
搜索关键词: | 光源 主动 光谱 控制 | ||
【主权项】:
一种控制光束的光谱性质的方法,所述方法包括:引导光束至被配置在晶片上创建图案的光刻曝光装置;接收表示光束的光谱性质的信息;接收表示光刻曝光装置的光学成像条件的信息;基于所接收的光谱性质信息和所接收的光学成像条件信息估计光束的特征值;确定所估计的光束特征值是否与目标光束特征值匹配;以及如果确定所估计的光束特性值与目标光束特性值不匹配,则调整所述光束的光谱性质。
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