[发明专利]压电/电致伸缩膜型元件的制造方法

摘要

本发明提供一种压电/电致伸缩膜型元件的制造方法，所述方法在增加最下层的电极膜的被覆率的同时，可防止空腔的平面位置与最下层的电极膜的平面位置的偏离。在制造压电/电致伸缩膜型元件时，将空腔中填充了遮光剂的基板作为掩膜通过光刻法形成下部电极膜，所述元件具有：基板；在基板的表面上与该空腔平面位置相对应而设置的层叠下部电极膜、压电/电致伸缩体膜及上部电极膜而成的振动层叠体。下部电极膜，在形成催化剂层后，通过无电解镀敷来形成。

主权项

一种压电/电致伸缩膜型元件的制造方法，所述压电/电致伸缩膜型元件具有：形成有空腔的基板；在所述基板的第一主面上与所述空腔平面位置相对应而设置的将电极膜和压电/电致伸缩体膜层叠而成的振动层叠体，所述制造方法具有：(a)制作所述基板的工序；(b)在所述基板的第一主面上形成第一光致抗蚀剂膜的工序；(c)由所述基板的第二主面一侧照射光，将转印有所述空腔的平面形状的潜像描画于所述第一光致抗蚀剂膜的工序；(d)通过显影除去在形成有所述空腔的区域所形成的所述第一光致抗蚀剂膜，形成第一光致抗蚀剂膜的图案的工序；(e)与所述第一光致抗蚀剂膜的图案重叠地在所述基板的第一主面上形成含有催化剂金属的树脂酸盐的树脂酸盐膜的工序；(f)除去所述第一光致抗蚀剂膜的图案及在形成有所述第一光致抗蚀剂膜图案的区域所形成的所述树脂酸盐膜，形成树脂酸盐膜的图案的工序；(g)将所述树脂酸盐膜的图案进行烧成，形成分布有催化剂金属的核的催化剂层的图案的工序；(h)在所述催化剂层的图案上进行无电解镀敷来形成镀敷膜，形成构成所述振动层叠体的最下层的电极膜的工序；(i)形成构成所述振动层叠体的电极膜和压电/电致伸缩体膜中的除了所述最下层的电极膜以外的膜的工序。