[发明专利]形成光子晶体材料的方法在审
| 申请号： | 201080039842.8 | 申请日： | 2010-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN102481723A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | G·瓦尔普斯;G·P·海尔曼;P·W·A·斯潘 | 申请（专利权）人： | 德拉鲁国际有限公司 |
| 主分类号： | B29C55/00 | 分类号： | B29C55/00;C30B5/00;G02B1/02;G02B6/122;G06K19/06 |
| 代理公司： | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人： | 钟守期;吴晓萍 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 提供了一种形成光子晶体材料膜的方法。对能够具有光子晶体结构的材料实施第一过程，该过程使材料变形，从而形成这样的膜，其中由该材料所接收的入射光被选择性地反射或透射从而在该膜中产生第一光学效应。对基本上整个膜实施第二过程，该过程对所述膜施加剪切应力。这导致材料结构的改变，从而响应于入射光在该膜内产生不同于所述第一光学效应的第二光学效应。还论述了使用所述方法形成的安全膜、器件、制品和文件。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 光子 晶体 材料 方法 | ||
【主权项】：
一种形成光子晶体材料膜的方法，包括：提供能够具有光子晶体结构的材料；对材料实施第一过程，其使该材料变形，从而形成这样的膜——其中由该材料所接收的入射光被选择性地反射或透射从而在该膜中产生第一光学效应；和对基本上整个所述膜实施第二过程，其对所述膜施加剪切应力，由此导致材料结构的改变，从而响应于入射光在该膜内产生不同于所述第一光学效应的第二光学效应。
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