[发明专利]具有印刷光探测器阵列的成像测量系统有效

专利信息
申请号: 201080039976.X 申请日: 2010-08-05
公开(公告)号: CN102483461A 公开(公告)日: 2012-05-30
发明(设计)人: S·莱韦内;A·阿尔特曼;N·魏纳;C·R·龙达;E·I·哈斯克尔;D·M·德里兀 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G01T1/20 分类号: G01T1/20;G01T1/24;G01T1/29
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王英;刘炳胜
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 提供了低成本大面积光探测器阵列。在第一实施例中,光探测器包括形成于单个厚层材料中的无机光电转换材料。在第二实施例中,光探测器包括若干薄层无机光电转换材料的层压结构,其组合厚度足够大,从而以高的探测器量子效率吸收进入的X射线。在第三实施例中,光探测器包括几层无机或有机光电转换材料的层压结构,其中每层具有复合闪烁体涂层。
搜索关键词: 具有 印刷 探测器 阵列 成像 测量 系统
【主权项】:
一种成像系统,包括:辐射源,其绕着所述成像系统的中心z轴旋转以执行成像扫描;以及无机光探测器阵列,其包括布置于弯曲支撑上的若干分立无机光探测器,使得每排无机光探测器沿着所述弯曲支撑的曲线对齐,且每列无机光探测器平行于所述成像系统的所述中心z轴对齐。
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