[发明专利]沿弯曲辐条k空间轨线的RF匀场的MRI切片激励无效

专利信息
申请号: 201080039985.9 申请日: 2010-08-05
公开(公告)号: CN102483450A 公开(公告)日: 2012-05-30
发明(设计)人: U·卡切尔 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G01R33/565 分类号: G01R33/565
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王英;刘炳胜
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种用于在磁共振成象(MRI)系统(10)中使用的射频(RF)匀场装置(50),其包括空间灵敏度单元(30),空间灵敏度单元(30)确定至少一个RF线圈(18、18’)的发射空间灵敏度分布。选择单元(32)选择具有跨平面、一维激励k空间轨线的激励模式。根据所生成的空间灵敏度分布,通过优化单元(34)使跨平面、一维激励k空间轨线弯曲到至少第二维度中。优化单元(34)将经弯曲的激励k空间轨线提供给至少一个发射器(24),所述发射器(24)令至少一个RF发射线圈(18、18’)发射具有弯曲的激励k空间轨线的激励模式。
搜索关键词: 弯曲 辐条 空间 rf mri 切片 激励
【主权项】:
一种射频(RF)匀场装置(50),包括:空间灵敏度单元(30),其确定至少一个RF线圈(18、18’)的发射空间灵敏度分布;选择单元(32),其选择具有激励k空间轨线的激励模式;优化单元(34),其根据所生成的空间灵敏度分布来弯曲所选择的激励模式的激励k空间轨线,并将经弯曲的激励k空间轨线经由梯度控制器(22)提供给梯度系统(16)以及将RF脉冲提供给至少一个发射器(24),所述发射器令所述至少一个RF发射线圈(18、18’)发射所选择的具有所述经弯曲的激励k空间轨线的激励模式。
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