[发明专利]四烷基氢氧化铵的制造方法无效
申请号: | 201080040934.8 | 申请日: | 2010-07-28 |
公开(公告)号: | CN102510853A | 公开(公告)日: | 2012-06-20 |
发明(设计)人: | 佐藤诚;渡边淳;村田昭子 | 申请(专利权)人: | 株式会社德山 |
主分类号: | C07C209/68 | 分类号: | C07C209/68;C02F1/42;C07C211/63 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供TAA-OH的制造方法,其能够适用于以下方法:在使由Cl型离子交换树脂再生而得到的OH型阴离子交换树脂与由1~20质量%的四烷基氯化铵(TAA-Cl)水溶液形成的原料溶液接触来制造TAA-OH水溶液的方法中,使通过通常的再生得到的Cl残留量比较多的OH型阴离子交换树脂与原料溶液接触而得到由TAA-Cl浓度为0.01~1质量%的TAA-OH水溶液形成的1次反应液,接着使Cl残留量非常少的OH型阴离子交换树脂与上述1次反应液接触而得到TAA-Cl浓度低于0.01质量%的TAA-OH水溶液,从而即使不进行电渗析或电解,也能够从包含四烷基氢氧化铵(TAA-OH)的水系废液中安全且有效地回收杂质含量少的TAA-OH水溶液。 | ||
搜索关键词: | 烷基 氢氧化铵 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种四烷基氢氧化铵的制造方法,其特征在于,所述四烷基氢氧化铵的制造方法包括以下工序而成:(A)“阴离子交换树脂处理工序”:通过使具有Cl离子作为阴离子交换基的抗衡离子的Cl型阴离子交换树脂与无机氢氧化物水溶液接触,将前述阴离子交换基的抗衡离子由Cl离子交换成OH离子,从而准备具有OH离子作为前述阴离子交换基的抗衡离子的OH型阴离子交换树脂;以及(B)“反应工序”:通过使前述工序中准备的前述OH型阴离子交换树脂与由四烷基卤化铵的浓度为1~20质量%的四烷基卤化铵水溶液形成的原料溶液接触,通过阴离子交换反应将四烷基卤化铵转换成四烷基氢氧化铵;在前述阴离子交换树脂处理工序(A)中,准备Cl离子溶出量不到100ppm的高纯度OH型阴离子交换树脂和前述Cl离子溶出量为100ppm以上的普通纯度OH型阴离子交换树脂,其中所述Cl离子溶出量如下定义:将使前述Cl型阴离子交换树脂与无机氢氧化物水溶液接触后,充分进行水洗至检测不到Cl离子为止后得到的OH型阴离子交换树脂100容量份填充到填充塔中,向该填充塔中通入0.5当量(N)的氢氧化钠水溶液500容量份时流出的最后200容量份的流出液中所含的Cl离子浓度,前述反应工序(B)包括以下工序而成:(B‑1)1次反应工序:通过使前述原料溶液与前述普通纯度OH型阴离子交换树脂、或者与前述普通纯度OH型阴离子交换树脂及前述高纯度OH型阴离子交换树脂接触,从而得到由以0.01~1质量%的浓度含有四烷基卤化铵的四烷基氢氧化铵水溶液形成的1次反应液;以及,(B‑2)2次反应工序:使前述1次反应液与前述高纯度OH型阴离子交换树脂接触,从而得到由四烷基卤化铵的浓度低于 0.01质量%的四烷基氢氧化铵水溶液形成的2次反应液。
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