[发明专利]分布式X射线源和包括其的X射线成像系统无效
| 申请号： | 201080040935.2 | 申请日： | 2010-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN102498540A | 公开（公告）日： | 2012-06-13 |
| 发明（设计）人： | A·莱瓦尔特;R·皮蒂格;W·克罗斯特 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J35/06 | 分类号： | H01J35/06;H01J35/28 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王英;刘炳胜 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 提出了一种分布式X射线源(3)和包括这种X射线源(3)的成像系统(1)。X射线源(3)包括电子束源装置(19)和阳极装置(17)。所述电子束源装置(19)适于向所述阳极装置(17)上至少两个局部相异的焦斑(27)发射电子束(24)。其中，所述X射线源适于使所述阳极装置(17)相对于所述电子束源装置(19)位移。提供多个焦斑能够在不同投影角下采集投影图像，由此允许例如在合成X射线断层摄影应用中重建三维X射线图像，同时，阳极装置(17)相对于电子束源装置(19)的位移运动可以允许通往阳极装置的分布式热流动，由此可能减小冷却要求。 | ||
| 搜索关键词： | 分布式 射线 包括 成像 系统 | ||
【主权项】：
一种分布式X射线源(3)，其包括：电子束源装置(19)；阳极装置(17)；其中，所述电子束源装置(19)适于向所述阳极装置(17)上的至少两个局部相异的焦斑(27)发射电子束(24)；其中，所述X射线源(3)适于使所述阳极装置(17)相对于所述电子束源装置(19)位移。
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