[发明专利]用于抛光大体积硅的组合物及方法有效
| 申请号： | 201080041294.2 | 申请日： | 2010-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN102725373A | 公开（公告）日： | 2012-10-10 |
| 发明（设计）人： | B.雷斯;J.克拉克;L.琼斯;J.吉利兰;M.怀特 | 申请（专利权）人： | 嘉柏微电子材料股份公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了包含以下的抛光组合物：(a)二氧化硅、(b)一种或多种提高硅移除速率的化合物、(c)一种或多种四烷基铵盐、和(d)水，其中，该抛光组合物的pH值为7至11。本发明进一步提供了用该抛光组合物抛光基板的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 抛光 体积 组合 方法 | ||
【主权项】：
化学机械抛光组合物，其基本上由以下组成：(a)0.5重量％至20重量％的二氧化硅，(b)0.02重量％至5重量％的一种或多种有机羧酸，(c)0.05重量％至2重量％的一种或多种氨基膦酸，(d)0.1重量％至5重量％的一种或多种四烷基铵盐，(e)任选的一种或多种碳酸氢盐，(f)任选的氢氧化钾，及(g)水，其中该抛光组合物的pH值为7至11。
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