[发明专利]光固化性转印片、及使用其的凹凸图案的形成方法有效
| 申请号： | 201080041486.3 | 申请日： | 2010-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN102498544A | 公开（公告）日： | 2012-06-13 |
| 发明（设计）人： | 稻宫隆人;桥元贤志;甲斐田荣三 | 申请（专利权）人： | 株式会社普利司通 |
| 主分类号： | H01L21/027 | 分类号： | H01L21/027;B29C33/38;B29C59/02;B32B3/26;B32B27/30;B29K33/04;B32B3/30 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种光固化性转印片，其是能够有利地用于纳米压印工艺法中中间压模的制作的光固化性转印片，其与中间压模的制作时使用的具有微细凹凸图案的模具的脱模性、及与从中间压模转印了凹凸图案的光固化性树脂的脱模性良好，并且凹凸图案的转印性优异。本发明还提供一种使用上述光固化性转印片形成微细凹凸图案的方法。一种光固化性转印片(10)，其特征在于，其具有通过加压能够变形、由包含聚合物和反应性稀释剂的光固化性组合物形成的光固化性转印层(11)，上述聚合物由包含具有脂环基的(甲基)丙烯酸酯重复单元的丙烯酸树脂形成。进而，本发明还提供一种使用上述光固化性转印片来形成凹凸图案的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光固化 性转印片 使用 凹凸 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种光固化性转印片，其特征在于，具有通过加压能够变形、由包含聚合物和具有光聚合性官能团的反应性稀释剂的光固化性组合物形成的光固化性转印层，所述聚合物由包含具有脂环基的(甲基)丙烯酸酯重复单元的丙烯酸树脂形成。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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