[发明专利]源收集器设备、光刻设备以及器件制造方法有效
| 申请号： | 201080042458.3 | 申请日： | 2010-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN102576195A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | E·鲁普斯特拉;V·班尼恩;G·斯温克尔斯;S·皮克尔德;D·兰贝特斯基;U·斯坦姆;W·N·帕特劳 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;赛默股份公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;C01B3/50;G21K1/06 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种EUV光刻设备(100)，包括：源收集器设备(SO)，其中通过激发燃料以提供发射辐射的等离子体(210)来产生极紫外辐射。所述源收集器设备(SO)包括腔(310)，所述腔(310)与腔外部的引导通路(320)流体连通。用于循环缓冲气体的泵(BPS)是引导通路(320)的一部分，并提供闭合回路缓冲气体流(222)。流动通过引导通路(320)的气体穿过气体分解器(TD1)，其中燃料材料和缓冲气体材料的化合物被分解，使得分解的缓冲气体材料可以被供给回至闭合回路流动路径(222)中。 | ||
| 搜索关键词： | 收集 设备 光刻 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用于极紫外辐射光刻设备的源收集器设备，其中通过激发燃料以提供发射辐射的等离子体来产生极紫外辐射，所述源收集器设备包括：包围结构，构造并布置成限定在包围结构内的缓冲气体的闭合回路流动路径；泵，构造并布置成驱使缓冲气体通过所述闭合回路流动路径；和气体分解器，构造并布置成分解燃料材料和缓冲气体材料的化合物，并将所述缓冲气体材料的至少一部分供给回至闭合回路流动路径中。
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