[发明专利]真空阀装置及使用该真空阀装置的真空铸件装置无效

专利信息
申请号: 201080042955.3 申请日: 2010-11-04
公开(公告)号: CN102712040A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 中里定行;木村哲也;藤生美明 申请(专利权)人: 三电有限公司
主分类号: B22D17/22 分类号: B22D17/22;B22C9/06;B22D17/14
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 马洪
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种真空阀装置及使用该真空阀装置的真空铸件装置,该真空阀装置能确保和维持阀体的顺畅动作,并能确保适当的空间作为真空抽吸气体流路。真空阀装置包括:活塞杆,该活塞杆由杆部、活塞部和导向部构成,其中,所述活塞部形成在一端,所述导向部从该活塞部朝向另一端侧延伸至杆部;以及杆片,该杆片具有供该活塞杆从一端嵌插入并贯穿至另一端的插通孔,其特征是,包括插通孔的所述一端在内的插通孔的至少一部分构成气体流路,在该气体流路关闭时,活塞部被嵌插在插通孔的所述一端,在气体流路打开时,在导向部的一部分被嵌插在插通孔的所述一端的状态下,活塞部露出到插通孔的外部。
搜索关键词: 真空 装置 使用 铸件
【主权项】:
一种真空阀装置,包括:活塞杆,该活塞杆由杆部、活塞部和导向部构成,其中,所述活塞部形成在一端,所述导向部从所述活塞部朝向另一端侧延伸至所述杆部;以及杆片,该杆片具有供所述活塞杆从一端嵌插入并贯穿至另一端的插通孔,其特征在于,包括所述插通孔的所述一端在内的所述插通孔的至少一部分构成气体流路,在该气体流路关闭时,所述活塞部被嵌插在所述插通孔的所述一端,在所述气体流路打开时,在所述导向部的一部分被嵌插在所述插通孔的所述一端的状态下,所述活塞部露出到所述插通孔的外部。
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