[发明专利]曝光设备以及装置制造方法无效
| 申请号： | 201080043371.8 | 申请日： | 2010-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN102549502A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 一之濑刚 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 寇英杰;田军锋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 使用以非接触方式从上方保持晶片(W)的吸盘构件(102)将晶片(W)装载到晶片载台(WST1)上以及从晶片载台(WST1)卸载晶片。因此，不必设置将晶片(W)装载到晶片载台(WST1)上或将晶片(W)从晶片载台(WST1)卸载的构件等，其可以避免载台尺寸和重量的增加。此外，通过使用以非接触方式从上方保持晶片(W)的吸盘构件(102)，薄的、柔性的晶片可以没有任何问题地装载到晶片载台(WST1)上以及从晶片载台(WST1)卸载晶片。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 设备 以及 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光设备，所述曝光设备通过由第一支承构件支承的光学系统利用能量束将物体曝光，所述设备包括：可移动体，所述可移动体保持所述物体并且能够沿预定平面移动；引导表面形成构件，所述引导表面形成构件形成当所述可移动体沿所述预定平面移动时被使用的引导表面；第二支承构件，所述第二支承构件通过所述引导表面形成构件与所述引导表面形成构件间隔开地布置在与所述光学系统相对的一侧上，并且所述第二支承构件与所述第一支承构件的位置关系维持在预定关系；位置测量系统，所述位置测量系统包括第一测量构件，所述第一测量构件利用测量束照射平行于所述预定平面的测量表面并接收来自所述测量表面的光，并且所述位置测量系统基于所述第一测量构件的输出获取所述可移动体在所述预定平面内的位置信息，所述测量表面设置在所述可移动体和所述第二支承构件中的一个处，并且所述第一测量构件的至少一部分设置在所述可移动体和所述第二支承构件中的另一个处；驱动系统，所述驱动系统基于所述可移动体在所述预定平面内的位置信息驱动所述可移动体；以及搬运系统，所述搬运系统具有至少一个以非接触方式从上方保持所述物体的吸盘构件，并且所述搬运系统使用所述吸盘构件将所述物体装载到所述可移动体上以及将所述物体从所述可移动体上卸载。
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