[发明专利]通过单体真空沉积和聚合获得的静电荷耗散材料无效
| 申请号： | 201080043466.X | 申请日： | 2010-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN102549210A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | B·比斯比斯;I·V·布莱特索斯;N·S·布拉布斯 | 申请（专利权）人： | 纳幕尔杜邦公司 |
| 主分类号： | D06M10/02 | 分类号： | D06M10/02;D06M10/08;D06M13/256;D06M15/263;D06M15/21;A41D13/008;A41D31/00;B05D7/24;C08J7/18;D21H19/16;H05K9/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 王伦伟;李炳爱 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及制备静电荷耗散材料的方法，所述方法包括以下步骤：(a)任选地在等离子场中预处理基底；(b)将至少一种单体和至少一种吸湿添加剂闪蒸到真空室中以产生蒸气；(c)冷凝所述基底上的所述蒸气，从而在所述基底上生成由所述单体和所述吸湿添加剂涂层构成的膜；以及(d)固化所述膜的所述单体，从而在所述基底上生成包含吸湿添加剂的聚合物层；其中所述冷凝步骤是在将所述聚合物层限制为约3.0μm的最大厚度的蒸气密度和停留时间条件下进行的。所述静电荷耗散材料可用于保护静电敏感电子元件。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 单体 真空 沉积 聚合 获得 静电荷 耗散 材料 | ||
【主权项】：
一种制备静电荷耗散材料的方法，包括以下步骤：(a)任选地在等离子场中预处理基底；(b)将至少一种单体和至少一种吸湿添加剂闪蒸到真空室中以产生蒸气；(c)在所述基底上冷凝所述蒸气，从而在所述基底上生成由所述单体和所述吸湿添加剂涂层构成的膜；以及(d)固化所述膜的所述单体，从而在所述基底上生成包含吸湿添加剂的聚合物层；其中所述冷凝步骤是在将所述聚合物层限制为约3.0μm的最大厚度的蒸气密度和停留时间条件下进行的。
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