[发明专利]曝光装置、曝光方法以及设备制造方法无效
| 申请号： | 201080044051.4 | 申请日： | 2010-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN102549504A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 一之濑刚 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王萍;李春晖 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 基于使用测量系统测量的晶片载台(WST1)的位置信息和晶片载台(WST1)的倾斜信息驱动晶片载台(WST1)。这允许高精度地驱动晶片载台(WST1)，其中当晶片载台(WST1)倾斜时对晶片载台的影响减小。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 以及 设备 制造 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，其经由被第一支撑部件支撑的光学系统利用能量束将物体曝光，所述装置包括：可移动体，其固持所述物体并可沿预定平面移动；引导表面形成部件，其形成所述可移动体沿所述预定平面移动时使用的引导表面；第二支撑部件，其经由所述引导表面形成部件与所述引导表面形成部件分开设置在所述光学系统的相对侧，并且其与所述第一支撑部件的位置关系维持在预定状态；位置测量系统，其包括第一测量部件，该第一测量部件利用测量束照射与所述预定平面平行的测量表面并且从所述测量表面接收光，并且所述位置测量系统基于所述第一测量部件的输出获得所述可移动体在所述预定平面内的位置信息，所述测量表面布置在所述可移动体和所述第二支撑部件中的一个处并且所述第一测量部件的至少一部分布置在所述可移动体和所述第二支撑部件中的另一个处；以及倾斜测量系统，其获得所述可移动体相对于所述预定平面的倾斜信息。
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