[发明专利]用于涂覆衬底的方法和涂覆器有效
| 申请号： | 201080044690.0 | 申请日： | 2010-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN102549706A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 马库斯·班德尔;马卡斯·哈尼卡;伊夫林·希尔;法毕奥·皮拉里斯;盖德·曼克 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/34 | 分类号： | H01J37/34 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 柳春雷 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供一种用具有可旋转靶(20)的阴极组件(10)涂覆衬底(100)的方法。可旋转靶具有至少一个位于其内的磁体组件(25)。该方法包括将磁体组件定位在第一位置，使得其相对于平面(22)不对称地排列达预定第一时间间隔，所述平面从衬底(100)垂直延伸到可旋转靶的轴线(21)；将磁体组件定位在第二位置处达预定第二时间间隔，第二位置相对于所述平面(22)不对称地排列；并且在涂覆过程中向可旋转靶提供随时间而变化的电压。此外，提供一种涂覆器，其包括具有可旋转弯曲靶的阴极组件；以及两个定位在可旋转弯曲靶内的磁体组件，其中，两个磁体组件之间的距离能变化。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 衬底 方法 涂覆器 | ||
【主权项】：
一种用于用至少一个阴极组件(10)涂覆衬底(100)的方法，所述阴极组件具有可旋转靶(20)，所述可旋转靶具有至少一个定位在内的磁体组件(25)，所述方法包括：将所述至少一个磁体组件定位在第一位置处，使得所述至少一个磁体组件相对于平面(22)不对称地排列达预定第一时间间隔，所述平面从所述衬底(100)垂直地延伸到所述可旋转靶的轴线(21)；将所述至少一个磁体组件定位在第二位置处达预定第二时间间隔，所述第二位置相对于所述平面(22)不对称布置；并且在涂覆过程中向所述可旋转靶提供随时间而变化的电压。
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