[发明专利]抗反射光致抗蚀剂组合物有效

专利信息
申请号: 201080045299.2 申请日: 2010-10-29
公开(公告)号: CN102575127A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 姚晖蓉;林观阳;M·O·奈塞尔 申请(专利权)人: AZ电子材料美国公司
主分类号: C09D167/00 分类号: C09D167/00;G03F7/09
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 夏正东
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物,其包含聚合物,交联剂和酸产生剂,其中聚合物包含至少一个结构1单元,(结构式I)(I)其中,X是连接部分,其选自非芳族的(A)组成部分,芳族(P)组成部分及其混合物,R′是结构(2)的基团,R″独立地选自氢,结构(2)的组成部分,Z以及W-OH,其中Z是(C1-C20)烃基组成部分以及W是(C1-C20)亚烃基连接部分,以及,Y′独立地是(C1-C20)亚烃基连接部分,其中结构(2)是(结构式II)(II)其中R1以及R2独立地选自H以及C1-C4烷基以及L是有机烃基。此外本发明涉及使该抗反射涂料组合物成像的方法。
搜索关键词: 反射光 致抗蚀剂 组合
【主权项】:
1.用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物,其包含聚合物、交联剂以及酸产生剂,其中该聚合物包含至少一个结构1单元,其中,X是选自非芳族(A)组成部分、芳族(P)组成部分及其混合物的连接部分,R′是结构(2)的基团,R″独立地选自氢、结构(2)的组成部分、Z以及W-OH,其中Z是(C1-C20)烃基组成部分以及W是(C1-C20)亚烃基连接部分,以及Y′独立地是(C1-C20)亚烃基连接部分,其中结构(2)是其中R1以及R2独立地选自H以及C1-C4烷基以及L是有机烃基。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于AZ电子材料美国公司,未经AZ电子材料美国公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201080045299.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top