[发明专利]逻辑电路和半导体装置有效
申请号: | 201080048602.4 | 申请日: | 2010-10-06 |
公开(公告)号: | CN102687400A | 公开(公告)日: | 2012-09-19 |
发明(设计)人: | 盐野入丰;小林英智 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H03K19/096 | 分类号: | H03K19/096;H01L21/822;H01L27/04;H01L29/786;H03K3/037;H03K19/20 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 秦晨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 在时钟门控技术被执行的逻辑电路中,储用功率被降低或者故障被抑制。该逻辑电路包括晶体管,其中,在没有供给时钟信号的时段,当源极端子和漏极端子之间存在电势差时,该晶体管处于截止状态。该晶体管的沟道形成区是使用氧化物半导体形成,在该氧化物半导体中,氢浓度被降低。具体地,氧化物半导体的氢浓度为5×1019(原子/立方厘米)或更低。因此,可以减少晶体管的泄漏电流。结果,在该逻辑电路中,可以实现储用功率的减少以及故障的抑制。 | ||
搜索关键词: | 逻辑电路 半导体 装置 | ||
【主权项】:
一种逻辑电路,含有第一时段和第二时段,其中,在所述第一时段,时钟信号被输入,而在所述第二时段,所述时钟信号没有被输入,该逻辑电路包括:晶体管,当在所述第二时段内源端子和漏端子之间存在电势差时,该晶体管处于截止状态,其中,所述晶体管的沟道形成区是使用氧化物半导体形成的,在所述氧化物半导体中,氢浓度为5×1019原子/立方厘米或更低。
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