[发明专利]光催化剂构造体以及除臭装置无效

专利信息
申请号: 201080048830.1 申请日: 2010-08-24
公开(公告)号: CN102596410A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: 中谷守雄 申请(专利权)人: 三洋电机株式会社
主分类号: B01J35/02 分类号: B01J35/02;B01D53/86
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 雒运朴
地址: 日本国大阪府守*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种能够高效地产生光催化剂反应的光催化剂构造体。此外,还提供采用了这样的光催化剂构造体的新型的除臭装置。净化板(光催化剂构造体)(10)具备:基板(11),其在表面形成了凹凸构造(11a);和光催化剂膜(13),其被配置在基板(11)的凹凸构造(11a)侧并且反映了凹凸构造(11a)的形状。凹凸构造(11a)以比由光催化剂膜(13)引起光催化剂反应的光的波长小的间距形成。通过从基板(11)侧入射规定波长的光,从而停留于吸附膜(14)的被净化物质通过光催化剂膜(13)所产生的光催化剂反应而被净化。通过将该净化板(10)组装于除臭装置中,能够提高除臭能力。
搜索关键词: 光催化剂 构造 以及 除臭 装置
【主权项】:
一种光催化剂构造体,其特征在于,具备:基板,其在表面形成了凹凸构造;和光催化剂膜,其被配置在上述基板的上述凹凸构造侧并且反映了上述凹凸构造的形状,上述凹凸构造以比由上述光催化剂膜引起光催化剂反应的光的波长小的间距形成。
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